由于InGaN具有可調(diào)的寬頻帶間隙,在Micro-LED全彩顯示中的應(yīng)用前景廣闊。當(dāng)前LED技術(shù)面臨著兩大挑戰(zhàn):1.大量轉(zhuǎn)讓技術(shù);2.缺少高效可靠的紅光Micro-LED芯片。
現(xiàn)有的紅光LED都是用AlGaInP材料制成,在一般芯片尺寸下,效率可達(dá)60%以上。但是,當(dāng)芯片的尺寸縮小到微米量級時,它的效率會大大低于1%。另外,AlGaInP的機(jī)械強(qiáng)度較弱,轉(zhuǎn)移量大,在抓片和放置過程中容易產(chǎn)生裂紋。
該材料具有較好的機(jī)械穩(wěn)定性和較短的孔洞擴(kuò)散長度,并且與InGaN基綠光、藍(lán)光Micro-LED相兼容,是Micro-LED紅光芯片較理想的材料。但I(xiàn)nGaN基紅光量子阱存在著嚴(yán)重的銦偏析問題,使紅光量子阱中的非輻射成分增多,效率降低。InGaN基紅光LED的功率轉(zhuǎn)換效率在過去20年的研究中不足2.5%。銦偏析問題是InGaN基紅光LED發(fā)展的嚴(yán)重障礙。如何解決銦偏析問題,是制備高效的InGaN基紅光LED的關(guān)鍵。
南昌大學(xué)江風(fēng)益院士課題組日前在《PhotonicsResearch》2020年第8卷第11期上發(fā)表了他們最新研發(fā)的高光效InGaN基橙-紅光LED測試結(jié)果。
本研究以硅襯底氮化鎵技術(shù)為基礎(chǔ),引入銦鎵氮紅光量子阱與黃光量子阱交替生長的方法,并采用V形坑技術(shù),可有效地緩解紅光量子阱中高In組偏析問題。在此基礎(chǔ)上,利用V型p-n結(jié)和量子基帶隙工程,進(jìn)一步提高了紅光量子阱中的輻射復(fù)合率。利用這一技術(shù)成功制備出一系列高效的InGaN基橙-紅光LED,利用InGaN的黃色LED結(jié)構(gòu),研究了InGaN基橙-紅LED。
不是把所有黃色的QW都改成橙色,而是提出一個優(yōu)化后的QW結(jié)構(gòu),只把9個黃色QW中的2個改成橙色。結(jié)果表明,采用優(yōu)化結(jié)構(gòu)的LED效率更高,其WPE在0.8A/cm2波長608nm時可達(dá)24.0%,而采用橙色QW后,其性能提高,活性組分減少。
以優(yōu)化后的QW結(jié)構(gòu)為基礎(chǔ),開發(fā)了一系列高效的橙色和紅色I(xiàn)nGaN發(fā)光二極管,其峰值波長在594nm到621nm之間,相應(yīng)的WPE為0.8A/cm2,比以前報道的同一波段的InGaN基LED光效率提高大約10倍。
研究者們認(rèn)為,基于InGaN的紅色LED材料的質(zhì)量與微型顯示器的要求非常接近。由于微型LED芯片技術(shù)的發(fā)展,以及材料的進(jìn)一步改進(jìn),相信在不久的將來,基于InGaN的紅色LED可以用于微型顯示器。
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來源:中國照明網(wǎng)